日本科学家突破:新型材料有望大幅降低MRAM功耗,加速新一代存储技术应用

日本科学家突破:新型材料有望大幅降低MRAM功耗,加速新一代存储技术应用

知行看点 2025-03-26 热点资讯 67 次浏览 0个评论

日本科学家突破:新型材料有望大幅降低MRAM功耗,加速新一代存储技术应用

计算机技术的进步史,就是一部不断追求更高性能、更快速度、更低功耗的演进史。从阿波罗11号登月所使用的计算机,到如今我们口袋里的智能手机,短短半个世纪,计算能力实现了质的飞跃。然而,科技进步的脚步永不停歇,在存储技术领域,磁阻随机存储器(MRAM)被寄予厚望,有望取代传统的动态随机存储器(DRAM),为计算机带来新的飞跃。

MRAM的优势与挑战

MRAM利用电子的自旋来存储信息,而非DRAM中电容器上的微小电荷。这种特性使其具有非易失性,即断电后仍能保存数据。理论上,MRAM设备能够显著降低待机状态下的功耗,从而使计算机更加强大且高效。

MRAM的概念早在20世纪80年代末就已提出,但由于改变磁化矢量和写入信息所需的电流过大,导致其存储密度难以达到实际应用的要求。这一直是MRAM技术发展的瓶颈。

大阪大学的突破性研究

近日,日本大阪大学的科学家们取得了一项突破性进展,他们开发出一种新型材料,有望降低MRAM的电流阈值,同时保持其固有的高效性。这项研究成果发表在《先进科学》(Advanced Science)期刊上。

该研究团队开发了一种名为“多铁异质结构”的组件,用于改进MRAM设备中电场的控制。这种新型组件由两层铁磁材料和压电材料构成,中间夹着一层超薄的钒元素薄膜,这是以往MRAM设备所不具备的。

据报道,当电流通过这些材料时,磁状态会发生方向切换,材料保持原有形状,且断电后磁状态仍能保持。这一突破有望降低写入信息所需的功耗,并为实现更高的MRAM存储密度打开大门。

多铁异质结构:实现高性能MRAM的关键

大阪大学的滨名公平(Kohei Hamaya)在一份新闻稿中表示:“通过精确控制多铁异质结构,我们满足了实现实用磁电(ME)-MRAM设备的两个关键要求:在零电场下实现非易失性二进制状态,以及巨大的逆磁电效应。”

MRAM的未来展望

尽管该技术在持续使用中的表现还有待进一步验证,但研究人员对将其应用于“实用MRAM设备”充满信心。正如大多数新兴技术一样,MRAM不太可能很快出现在笔记本电脑的规格表上,而是会首先应用于更为小众的领域。但我们有理由相信,MRAM最终会改变我们的生活。

MRAM技术的发展,将为计算机、移动设备等领域带来革命性的变革,让我们拭目以待。

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